調(diào)焦調(diào)平的離焦傾斜補償裝置與方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201511024259.0 申請日 -
公開（公告）號 CN106933044B 公開（公告）日 2019-03-12
申請公布號 CN106933044B 申請公布日 2019-03-12
分類號 G03F7/20（2006.01）I; G03F9/00（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 顧俊; 王海江 申請（專利權(quán)）人 上海微高精密機械工程有限公司
代理機構(gòu) 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司; 上海微高精密機械工程有限公司
地址 201203 上海市浦東新區(qū)張東路1525號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種調(diào)焦調(diào)平的離焦傾斜補償裝置與方法，該裝置包括：照明單元、投影單元、探測單元及中繼單元，所述投影單元包括投影狹縫整列，該投影狹縫陣列包括若干用于形成精測試光斑的第一狹縫，和設(shè)置在所述第一狹縫周圍用于形成傾斜測試光斑的第二狹縫，所述第二狹縫沿調(diào)節(jié)調(diào)平系統(tǒng)的投影方向設(shè)置。本發(fā)明在沿著調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng)的投影方向在第一狹縫的附近增加第二狹縫，進(jìn)而在精測試光斑周圍增設(shè)傾斜測試光斑，從而改變光斑布局，通過該傾斜測試光斑實現(xiàn)對硅片面上每個精測試光斑沿調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng)投影方向的傾斜量進(jìn)行實時測量，并使用軟件模塊根據(jù)傾斜量對單點的測量結(jié)果進(jìn)行補償。