一種調(diào)焦調(diào)平測量系統(tǒng)及其校準方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201511025832.X 申請日 -
公開（公告）號 CN106933072B 公開（公告）日 2019-07-23
申請公布號 CN106933072B 申請公布日 2019-07-23
分類號 G03F9/00;G03F7/20 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 楊宣華;陳楠鵬;王海江 申請（專利權(quán)）人 上海微高精密機械工程有限公司
代理機構(gòu) 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務所（普通合伙） 代理人 上海微電子裝備（集團）股份有限公司;上海微高精密機械工程有限公司
地址 201203 上海市浦東新區(qū)張東路1525號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種調(diào)焦調(diào)平測量系統(tǒng)及其校準方法，該系統(tǒng)包括測量分系統(tǒng)和校準分系統(tǒng)，測量分系統(tǒng)包括第一照明單元、第一投影單元、第一探測透鏡組及第一調(diào)焦探測器，校準分系統(tǒng)包括第二照明單元、第二投影單元、第二探測透鏡組及第二調(diào)焦探測器，測量分系統(tǒng)與校準分系統(tǒng)關(guān)于硅平面的上表面呈軸對稱分布，第一照明單元發(fā)出的光源經(jīng)所述第一投影單元入射至硅平面的上表面，經(jīng)反射后入射至第一探測透鏡組并被第一調(diào)焦探測器接收；第二照明單元發(fā)出的光源經(jīng)第二投影單元入射至硅平面的下表面，經(jīng)反射后入射至第二探測透鏡組并被第二調(diào)焦探測器接收。本發(fā)明在同一個系統(tǒng)中設置兩套三角測量裝置，能夠進行交叉測量，從而快速識別漂移部位并進行有效補償。