一種對準(zhǔn)系統(tǒng)及對準(zhǔn)方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201510859907.8 申請日 -
公開（公告）號 CN106814557B 公開（公告）日 2019-04-30
申請公布號 CN106814557B 申請公布日 2019-04-30
分類號 G03F9/00（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 于大維; 杜榮 申請（專利權(quán)）人 上海微高精密機械工程有限公司
代理機構(gòu) 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 上海微電子裝備（集團）股份有限公司; 上海微高精密機械工程有限公司
地址 201203 上海市浦東新區(qū)張東路1525號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提出一種對準(zhǔn)系統(tǒng)及對準(zhǔn)方法，該對準(zhǔn)系統(tǒng)包括：掩模版，提供投影曝光圖案和對準(zhǔn)標(biāo)記；投影物鏡焦面測量標(biāo)記，設(shè)置于所述掩模版上；投影物鏡，對掩模版上的曝光圖案、標(biāo)記成像到硅片方像方焦面；工件臺，承載有同軸鏡頭、基準(zhǔn)板和硅片，其中同軸鏡頭對對準(zhǔn)標(biāo)記、投影物鏡焦面測量標(biāo)記和調(diào)焦標(biāo)記進行成像，基準(zhǔn)板承載有調(diào)焦標(biāo)記和參考標(biāo)記，并提供水平向和垂向測量基準(zhǔn)，硅片承載有硅片對準(zhǔn)標(biāo)記；調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng)，對硅片表面調(diào)平，控制硅片上表面與硅片焦面重合；離軸對準(zhǔn)系統(tǒng)，對硅片圖案對準(zhǔn)。本發(fā)明旨在為調(diào)焦調(diào)平、對準(zhǔn)、焦面探測建立統(tǒng)一的測量基準(zhǔn)，提高垂向、水平向測量分系統(tǒng)對溫度變化等情況的適應(yīng)能力。