一種對準系統(tǒng)及對準方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201510859907.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN106814557B | 公開(公告)日 | 2019-04-30 |
申請公布號 | CN106814557B | 申請公布日 | 2019-04-30 |
分類號 | G03F9/00(2006.01)I | 分類 | 攝影術;電影術;利用了光波以外其他波的類似技術;電記錄術;全息攝影術〔4〕; |
發(fā)明人 | 于大維; 杜榮 | 申請(專利權)人 | 上海微高精密機械工程有限公司 |
代理機構 | 上海思微知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 上海微電子裝備(集團)股份有限公司; 上海微高精密機械工程有限公司 |
地址 | 201203 上海市浦東新區(qū)張東路1525號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提出一種對準系統(tǒng)及對準方法,該對準系統(tǒng)包括:掩模版,提供投影曝光圖案和對準標記;投影物鏡焦面測量標記,設置于所述掩模版上;投影物鏡,對掩模版上的曝光圖案、標記成像到硅片方像方焦面;工件臺,承載有同軸鏡頭、基準板和硅片,其中同軸鏡頭對對準標記、投影物鏡焦面測量標記和調(diào)焦標記進行成像,基準板承載有調(diào)焦標記和參考標記,并提供水平向和垂向測量基準,硅片承載有硅片對準標記;調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng),對硅片表面調(diào)平,控制硅片上表面與硅片焦面重合;離軸對準系統(tǒng),對硅片圖案對準。本發(fā)明旨在為調(diào)焦調(diào)平、對準、焦面探測建立統(tǒng)一的測量基準,提高垂向、水平向測量分系統(tǒng)對溫度變化等情況的適應能力。 |
