輻射檢查系統(tǒng)和輻射檢查方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202011642948.9 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN114764074A 公開（公告）日 2022-07-19
申請(qǐng)公布號(hào) CN114764074A 申請(qǐng)公布日 2022-07-19
分類號(hào) G01N23/04（2018.01）I;G01V5/00（2006.01）I 分類 測(cè)量；測(cè)試;
發(fā)明人 芮曉亮;王永明;許艷偉 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 同方威視技術(shù)股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 代理人 -
地址 100084北京市海淀區(qū)雙清路同方大廈A座2層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 提供一種輻射檢查系統(tǒng)和方法。所述輻射檢查系統(tǒng)包括：輻射成像裝置；多個(gè)檢測(cè)裝置，分別設(shè)置在輻射檢查位置的下游的多個(gè)預(yù)設(shè)位置處，多個(gè)預(yù)設(shè)位置與輻射檢查位置之間沿檢查通道限定的行進(jìn)方向的距離不同，多個(gè)檢測(cè)裝置分別用于檢測(cè)被檢物體的需避讓部分的前端到達(dá)相應(yīng)的預(yù)設(shè)位置的多個(gè)時(shí)刻，并發(fā)出分別包括多個(gè)時(shí)刻的多個(gè)檢測(cè)信號(hào)；以及控制裝置?？刂蒲b置被配置為：確定被檢物體的類型，其中，不同類型的被檢物體的需避讓部分的長(zhǎng)度不同；響應(yīng)于不同類型的被檢物體，接收與該類型的被檢物體對(duì)應(yīng)的檢測(cè)裝置發(fā)出的檢測(cè)信號(hào)；以及在所述檢測(cè)信號(hào)包括的時(shí)刻之后經(jīng)過預(yù)定時(shí)間間隔，發(fā)出用于控制輻射成像裝置發(fā)射輻射束的指令。