射線發(fā)射裝置和輻射檢查設備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011641609.9 申請日 -
公開（公告）號 CN114764071A 公開（公告）日 2022-07-19
申請公布號 CN114764071A 申請公布日 2022-07-19
分類號 G01N23/04（2018.01）I;G21K1/02（2006.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 劉磊;季崢;侯利娜;公令軍 申請（專利權）人 同方威視技術股份有限公司
代理機構 中國貿促會專利商標事務所有限公司 代理人 -
地址 100084北京市海淀區(qū)雙清路同方大廈A座2層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本公開提供了一種射線發(fā)射裝置和輻射檢查設備。射線發(fā)射裝置包括：多個射線源，各所述射線源被配置為輸出射線束；和一個準直器，設置于所述多個射線源的出束側，被配置為同時限制所述多個射線源輸出的所述射線束的射束形狀。該射線發(fā)射裝置和輻射檢查設備利于射線發(fā)射裝置的安裝和調試。