一種蝕刻液及其制備方法和應(yīng)用
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110928638.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN113773840A | 公開(公告)日 | 2021-12-10 |
申請公布號(hào) | CN113773840A | 申請公布日 | 2021-12-10 |
分類號(hào) | C09K13/06(2006.01)I | 分類 | 染料;涂料;拋光劑;天然樹脂;黏合劑;其他類目不包含的組合物;其他類目不包含的材料的應(yīng)用; |
發(fā)明人 | 金炳生;劉耀鵬;高小云;劉兵 | 申請(專利權(quán))人 | 晶瑞電子材料股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 向亞蘭 |
地址 | 215000江蘇省蘇州市吳中區(qū)吳中經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)河?xùn)|工業(yè)園善豐路168號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種蝕刻液及其制備方法和應(yīng)用,該蝕刻液含有(A)醋酸、(B)鹽酸、(C)調(diào)控劑及(D)水;調(diào)控劑包含式(Ⅰ)所示的含有氨基苯基的化合物和/或聚苯胺,調(diào)控劑以無機(jī)酸鹽形式存在,1?6式中,R為H、C的烷基或制備方法包括:按配方量將各成分混合,分散,過濾,濾液為蝕刻液;及上述蝕刻液在蝕刻氧化銦系膜中的應(yīng)用;該蝕刻液能夠降低對鋁布線的腐蝕,且提升對氧化銦的蝕刻容量,體系穩(wěn)定性好,對有機(jī)膜、氮化硅及玻璃等的殘?jiān)?yōu)異等性能優(yōu)點(diǎn)。 |
