一種透明納米銀導(dǎo)電膜及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110479712.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113192666A | 公開(公告)日 | 2021-07-30 |
申請公布號 | CN113192666A | 申請公布日 | 2021-07-30 |
分類號 | H01B5/14(2006.01)I;H01B13/00(2006.01)I;H01B1/02(2006.01)I;H01B1/12(2006.01)I;H01B1/22(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 鄭時恒;謝才興 | 申請(專利權(quán))人 | 江蘇軟訊科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京華際知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 李帥 |
地址 | 213000江蘇省常州市天寧區(qū)藍天路158號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種透明納米銀導(dǎo)電膜及其制備方法,包括以下步驟:(1)涂布:取基底,在其上下兩表面涂布負性光刻膠,形成光刻膠層;(2)曝光:對光刻膠層進行紫外光照射;(3)顯影:置于顯影液中,形成圖案化的網(wǎng)格凹槽;(4)填銀:在網(wǎng)格凹槽中填充銀漿;(5)燒結(jié):對銀漿進行燒結(jié),形成導(dǎo)電網(wǎng)格,制得導(dǎo)電膜。本發(fā)明通過涂布在基底上下兩表面的負性光刻膠,經(jīng)過烘烤、曝光、顯影形成網(wǎng)格凹槽,填充銀漿,燒結(jié)形成導(dǎo)電網(wǎng)格,其中曝光時掩膜版不與所涂布的負性光刻膠接觸,避免掩膜版損傷,防止光刻膠出現(xiàn)脫膠、脫模,所得導(dǎo)電網(wǎng)格規(guī)整、精準。 |
