一種納米銀導(dǎo)電膜及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110470079.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113130138A | 公開(公告)日 | 2021-07-16 |
申請公布號 | CN113130138A | 申請公布日 | 2021-07-16 |
分類號 | H01B13/00(2006.01)I;H01B5/14(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 鄭時恒;謝才興 | 申請(專利權(quán))人 | 江蘇軟訊科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京華際知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 李帥 |
地址 | 213000江蘇省常州市天寧區(qū)藍(lán)天路158號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種納米銀導(dǎo)電膜及其制備方法,包括以下步驟:(1)涂布光刻膠:取基材,在其表面涂布光刻膠,形成光刻膠層,制得基材A;(2)涂布保護(hù)層:在基材A的光刻膠層上涂布保護(hù)層材料,形成保護(hù)層,制得基材B;(3)曝光:取基材B,照射紫外光進(jìn)行曝光處理,制得基材C;(4)顯影:取顯影液將基材C顯影處理,形成凹槽,制得基材D;(5)制備導(dǎo)電網(wǎng)格:在基材D的凹槽中填充銀漿,形成導(dǎo)電網(wǎng)格,制得導(dǎo)電膜。本發(fā)明在涂布光刻膠后涂布保護(hù)層,保護(hù)層隨光刻膠進(jìn)行曝光、顯影,形成凹槽,在填充銀漿時,銀漿殘留在保護(hù)層上,而非光刻膠上,能夠利用清洗液將保護(hù)層去除,避免手工擦拭,提高生產(chǎn)效率,提高產(chǎn)品性能和良率。 |
