一種熱敏印版曝光機(jī)構(gòu)保護(hù)裝置及熱敏直接制版機(jī)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202120041509.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN214324522U | 公開（公告）日 | 2021-10-01 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN214324522U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-10-01 |
| 分類號(hào) | B41C1/055（2006.01）I;B08B15/04（2006.01）I;B01D46/00（2006.01）I;B01D46/10（2006.01）I | 分類 | 印刷；排版機(jī)；打字機(jī)；模印機(jī)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 蘇春讓;王潔;王科 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 中煤地西安地圖制印有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） | 代理人 | 張洋 |
| 地址 | 710199陜西省西安市航天基地神舟四路216號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型提供了一種熱敏印版曝光機(jī)構(gòu)保護(hù)裝置及熱敏直接制版機(jī)，涉及一種熱敏印刷制版領(lǐng)域，熱敏印版曝光機(jī)構(gòu)保護(hù)裝置包括光源，光學(xué)模組以及除塵機(jī)構(gòu)；光學(xué)模組設(shè)置于光源的出光側(cè)，用于對(duì)熱敏印版曝光，除塵機(jī)構(gòu)設(shè)置于光學(xué)模組的一側(cè)。本實(shí)用新型的目的在于提供一種熱敏印版曝光機(jī)構(gòu)保護(hù)裝置及熱敏直接制版機(jī)，其能夠有效清除熱敏直接制版機(jī)光學(xué)模組曝光時(shí)熱敏印版產(chǎn)生的粉塵，有效減少光學(xué)模組的故障率，提高熱敏直接制版機(jī)的光學(xué)模組的穩(wěn)定性，提高熱敏直接制版機(jī)的工作效率。 |
