光刻膠涂覆裝置及光刻膠涂覆方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010055766.5 申請日 -
公開（公告）號 CN113138535A 公開（公告）日 2021-07-20
申請公布號 CN113138535A 申請公布日 2021-07-20
分類號 G03F7/16（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 田笵煥;林鐘吉;張成根;金在植 申請（專利權(quán)）人 夏泰鑫半導(dǎo)體（青島）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市賽恩倍吉知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 王娟
地址 266000山東省青島市黃島區(qū)太白山路172號青島中德生態(tài)園雙創(chuàng)中心219室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種光刻膠涂覆裝置，包括夾盤、光刻膠噴嘴、清洗劑噴嘴、邊緣曝光光源、顯影劑噴嘴及調(diào)整機(jī)構(gòu)，夾盤定位晶圓并帶動晶圓旋轉(zhuǎn)，光刻膠噴嘴向定位于夾盤上的晶圓噴涂光刻膠，清洗劑噴嘴向晶圓的邊緣的光刻膠噴涂清洗劑，邊緣曝光光源對晶圓的邊緣的光刻膠進(jìn)行曝光，顯影劑噴嘴向被曝光的晶圓的邊緣的光刻膠噴涂顯影劑，調(diào)整機(jī)構(gòu)調(diào)整清洗劑噴嘴保持噴涂的清洗劑與晶圓的表面的角度小于30度，調(diào)整機(jī)構(gòu)調(diào)整顯影劑噴嘴保持噴涂的顯影劑與晶圓的表面的角度小于30度。本發(fā)明的提供的光刻膠涂覆裝置能充分去除光刻膠，且避免清洗劑濺射至晶圓非邊緣處的光刻膠上，提高光刻良率。本發(fā)明還提供一種光刻膠涂覆方法。