轉(zhuǎn)移裝置及其清潔方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201911068959.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN111332734B | 公開(公告)日 | 2022-01-25 |
申請公布號 | CN111332734B | 申請公布日 | 2022-01-25 |
分類號 | B65G45/10(2006.01)I;B65G43/08(2006.01)I | 分類 | 輸送;包裝;貯存;搬運(yùn)薄的或細(xì)絲狀材料; |
發(fā)明人 | 金大鎮(zhèn) | 申請(專利權(quán))人 | 夏泰鑫半導(dǎo)體(青島)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 深圳市賽恩倍吉知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 彭輝劍;龔慧惠 |
地址 | 266000山東省青島市黃島區(qū)太白山路172號青島中德生態(tài)園雙創(chuàng)中心219室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種轉(zhuǎn)移裝置,用于在半導(dǎo)體制造過程中將半導(dǎo)體晶片轉(zhuǎn)移到蝕刻和其他制造過程中的裝置中,并保持真空環(huán)境的清潔度。該轉(zhuǎn)移裝置包括存儲晶片的轉(zhuǎn)移室,從轉(zhuǎn)移室抽取顆粒的真空系統(tǒng)以及用于溫度控制的熱電裝置。真空系統(tǒng)包括抽氣管,熱電裝置包括用于冷卻轉(zhuǎn)移室的冷卻裝置,以及監(jiān)測裝置。所述監(jiān)測裝置用于檢測轉(zhuǎn)移室中的顆粒濃度。冷卻裝置和真空系統(tǒng)設(shè)于轉(zhuǎn)移室下方,所述冷卻裝置包括設(shè)置在抽氣管上的帕爾帖元件,以冷卻抽氣管,從而使煙霧和顆粒朝著轉(zhuǎn)移室下部移動。本申請還提供一種清潔方法,用于清潔所述轉(zhuǎn)移裝置中的轉(zhuǎn)移室。 |
