紫外防偽原子印章制造工藝及設備
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN91105851.6 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN1059494A | 公開（公告）日 | 1992-03-18 |
| 申請公布號 | CN1059494A | 申請公布日 | 1992-03-18 |
| 分類號 | B41K1/00;G09F3/02 | 分類 | 印刷；排版機；打字機；模印機〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 李明智;趙景員;王義民;李萬慶;季茂海 | 申請（專利權）人 | 天津市首飾廠 |
| 代理機構 | 天津市專利事務所專利代理服務部 | 代理人 | 潘冠雄 |
| 地址 | 300160天津市河東區(qū)紅星路118號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 紫外防偽原子印章制造工藝涉及一種制造紫外防偽原子印章的工藝方法，包括照排、照象、凸版制作、凹版制作、橡膠壓制、滲油和裝配等工序，其中滲油工序是在真空干燥條件下將紫外防偽原子印油滲入橡膠凸版中。采用本工藝制造的原子印章除具有一般原子印章印次高，使用方便等優(yōu)點外，在適當波長紫外光照射下，其印跡可發(fā)出鮮艷的特征熒光，便于鑒別印跡真?zhèn)?，因而具有防止偽造的功能。本發(fā)明特別適用于制造紫外防偽原子印章。 |
