紅外快速退火爐

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111595920.9 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN114318547A 公開(kāi)（公告）日 2022-04-12
申請(qǐng)公布號(hào) CN114318547A 申請(qǐng)公布日 2022-04-12
分類號(hào) C30B33/02（2006.01）I;C30B29/06（2006.01）I;H01L21/324（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I 分類 晶體生長(zhǎng)〔3〕;
發(fā)明人 王愿兵;徐成松;蔡自彪;王振玉;李小平;楊林;熊磊;劉紅;邵煒;張勝;林沖 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 武漢嘉儀通科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 湖北武漢永嘉專利代理有限公司 代理人 許美紅
地址 430075湖北省武漢市東湖新技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)未來(lái)科技城起步區(qū)A5北4號(hào)樓11層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種紅外快速退火爐，包括爐體，其內(nèi)設(shè)有上、下兩排紅外燈管，相鄰紅外燈管之間均設(shè)有紅外隔熱擋片，阻隔紅外光透過(guò)。本發(fā)明通過(guò)利用紅外隔熱擋片將各相鄰紅外燈管隔開(kāi)，紅外隔熱片耐高溫，且不利于紅外光透過(guò)，以此減弱邊緣燈管向中心位置輻射熱量，將單根紅外燈管隔離為單獨(dú)輻射熱源，較大減少紅外波透過(guò)，可以有效緩解硅片加熱過(guò)程中的邊緣場(chǎng)效應(yīng)，保持硅片具有良好的溫度均勻性。