基于變密度法的三周期極小曲面多孔結構拓撲優(yōu)化方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201911295128.4 申請日 -
公開（公告）號 CN111062166B 公開（公告）日 2021-10-22
申請公布號 CN111062166B 申請公布日 2021-10-22
分類號 G06F30/23（2020.01）I;G06T17/20（2006.01）I 分類 計算；推算；計數;
發(fā)明人 傅建中;馮嘉煒;褚建農 申請（專利權）人 紅河創(chuàng)新技術研究院有限責任公司
代理機構 杭州天勤知識產權代理有限公司 代理人 曹兆霞
地址 310013浙江省杭州市西湖區(qū)余杭塘路866號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種基于變密度法的三周期極小曲面多孔結構拓撲優(yōu)化方法，包括以下步驟：步驟1：輸入三周期極小曲面函數表達式、設計域范圍和優(yōu)化目標密度；步驟2：根據設計域范圍與目標密度，利用變密度拓撲優(yōu)化方法生成密度分布并生成密度映射網格；步驟3：根據密度隱射網格生成雙等值參數三周期極小曲面；步驟4：提取雙等值參數三周期極小曲面六個封面的相交輪廓，生成封面輪廓三角網格；步驟5：對封面輪廓三角網格進行追蹤判斷，刪除非法網格，生成六個封面的合法三角網格；步驟6：將封面三角網格與雙等值參數三周期極小曲面組合，輸出優(yōu)化三周期極小曲面多孔結構STL文件。實現(xiàn)了Sheet構型的三周期極小曲面多孔結構的優(yōu)化設計。