一種適用于大尺寸單晶拉制的內(nèi)嵌式大軸托桿
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201921976688.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN211921740U | 公開(公告)日 | 2020-11-13 |
申請公布號 | CN211921740U | 申請公布日 | 2020-11-13 |
分類號 | C30B15/10;C30B29/06 | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
發(fā)明人 | 韓凱;張文霞;武志軍;郭謙;霍志強;郭志榮;張石晶;王勝利;趙志遠;高潤飛 | 申請(專利權(quán))人 | TCL中環(huán)新能源科技股份有限公司 |
代理機構(gòu) | 天津諾德知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 內(nèi)蒙古中環(huán)光伏材料有限公司 |
地址 | 300384 天津市濱海新區(qū)新技術(shù)產(chǎn)業(yè)園區(qū)華苑產(chǎn)業(yè)區(qū)(環(huán)外)海泰東路12號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型提供一種適用于大尺寸單晶拉制的內(nèi)嵌式大軸托桿,所述大軸托桿由原來的圓柱形改進為圓臺狀,包括托帽和下部托桿,坩堝堝托下端設(shè)有凹槽,所述托帽的形狀、尺寸與所述凹槽一致,所述下部托桿為圓柱形且橫截面面積小于所述托帽橫截面面積,所述托帽的上部橫截面面積小于下部橫截面面積,圓臺狀的設(shè)計配合設(shè)置有內(nèi)嵌式凹槽的坩堝堝托,減少大軸托桿的厚度,提高了坩堝在下限位時最大投料量,同時有效的增加了托桿的穩(wěn)定性,能保證在運行中石墨堝穩(wěn)定無異常的前提下,增加了坩堝的下限位距離,可以最大化的增加投料量,來提高大尺寸單晶的產(chǎn)出。 |
