掩模裝置及掩??刂品椒?/p>
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201811102151.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN109031882B | 公開(公告)日 | 2021-09-21 |
申請公布號 | CN109031882B | 申請公布日 | 2021-09-21 |
分類號 | G03F7/20(2006.01)I | 分類 | 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)〔4〕; |
發(fā)明人 | 蔡鵬;王鑫;王洋;楊軍;張燦 | 申請(專利權(quán))人 | 重慶京東方光電科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京三高永信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 | 代理人 | 楊廣宇 |
地址 | 100015北京市朝陽區(qū)酒仙橋路10號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種掩模裝置及掩??刂品椒?,屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域。所述掩模裝置包括:掩模板、多個加壓結(jié)構(gòu)和控制器,掩模板包括與多個加壓結(jié)構(gòu)一一對應(yīng)的多個掩模單元,掩模單元在受到第一壓力時處于遮光狀態(tài),且在受到第二壓力時處于透光狀態(tài),控制器與每個加壓結(jié)構(gòu)均連接;控制器用于:控制多個加壓結(jié)構(gòu)中的第一加壓結(jié)構(gòu)向其對應(yīng)的掩模單元施加第一壓力,以使第一加壓結(jié)構(gòu)對應(yīng)的掩模單元處于遮光狀態(tài);控制多個加壓結(jié)構(gòu)中的第二加壓結(jié)構(gòu)向其對應(yīng)的掩模單元施加第二壓力,以使第二加壓結(jié)構(gòu)對應(yīng)的掩模單元處于透光狀態(tài)。本發(fā)明解決了掩模裝置的工作效率較低的問題。本發(fā)明用于對顯示面板中的膜層進行掩模。 |
