一種制備氧化鎂單晶的直流電弧爐
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN200510046477.4 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN1304649C | 公開(公告)日 | 2007-03-14 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN1304649C | 申請(qǐng)公布日 | 2007-03-14 |
分類號(hào) | C30B35/00(2006.01);F27B3/08(2006.01);F27D11/08(2006.01) | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
發(fā)明人 | 王寧會(huì);王曉臣;黃耀;范衛(wèi)東 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 遼寧中大超導(dǎo)材料有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 大連理工大學(xué)專利中心 | 代理人 | 侯明遠(yuǎn) |
地址 | 116024遼寧省大連市甘井子區(qū)凌工路2號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明屬于晶體制備裝置技術(shù)領(lǐng)域,涉及到一種制備氧化鎂單晶的電熔裝置,特別涉及到一種制備氧化鎂單晶的直流電弧爐。其特征是本發(fā)明電弧爐的爐殼為中間帶有氣隙的雙層橢圓柱形結(jié)構(gòu),電弧加熱系統(tǒng)由直流冶煉電源、電極升降系統(tǒng)以及兩根垂直安裝的石墨電極構(gòu)成,整個(gè)爐體為立式結(jié)構(gòu)。本發(fā)明的效果和益處是電弧爐能夠大幅度提高氧化鎂晶體的產(chǎn)量和質(zhì)量,同時(shí)降低了對(duì)電網(wǎng)的沖擊,提高了電能的利用率。另外,本發(fā)明也可適用于生產(chǎn)其他高溫晶體。 |
