微透鏡陣列成像元件和成像裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111462621.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114200691A | 公開(公告)日 | 2022-03-18 |
申請公布號 | CN114200691A | 申請公布日 | 2022-03-18 |
分類號 | G02B30/29(2020.01)I;G02B30/56(2020.01)I;G02B27/01(2006.01)I | 分類 | 光學; |
發(fā)明人 | 張亮亮;李軍昌 | 申請(專利權(quán))人 | 安徽省東超科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京景聞知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 朱鴻雁 |
地址 | 230088安徽省合肥市高新區(qū)望江西路900號創(chuàng)谷科技園A3棟1層 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種微透鏡陣列成像元件和成像裝置,微透鏡陣列成像元件包括:第一微透鏡陣列,第二微透鏡陣列和遮光件,其中,第一微透鏡陣列包括若干焦距為f1的第一子透鏡,第二微透鏡陣列包括若干焦距為f2的第二子透鏡,第一微透鏡陣列與第二微透鏡陣列平行且第一微透鏡陣列與第二微透鏡陣列的中心間距以(f1+f2)設(shè)置,若干第一子透鏡與若干第二子透鏡一一對應(yīng)設(shè)置,并且第一微透鏡陣列和第二微透鏡陣列中對應(yīng)設(shè)置的兩個子透鏡的光軸重合;遮光件用于至少遮擋入射至相鄰的第一子透鏡之間和/或相鄰的第二子透鏡之間的光線。本發(fā)明的微透鏡陣列成像元件,可以減少入射到子透鏡間隙的干擾光線,提高成像質(zhì)量。 |
