一種立式高溫氧化、退火爐
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110191565.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112833661A | 公開(公告)日 | 2021-05-25 |
申請公布號 | CN112833661A | 申請公布日 | 2021-05-25 |
分類號 | F27B1/09;F27B1/10;F27B1/14;F27B1/28;F27D1/18;F27D7/06;F27D11/10;H01L21/67 | 分類 | 爐;窯;烘烤爐;蒸餾爐〔4〕; |
發(fā)明人 | 宋立祿;張海林;吳季浩;滕玉朋;劉國霞 | 申請(專利權(quán))人 | 賽瑞達智能電子裝備(無錫)股份有限公司 |
代理機構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 214000 江蘇省無錫市錫山區(qū)芙蓉中三路99號瑞云6座1樓東三個逗號眾創(chuàng)空間 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明的一種立式高溫氧化、退火爐包括:真空密封爐膛,通過爐底法蘭與真空密封爐膛連接的爐門室,爐門室底部開口處通過爐門密封,真空密封爐膛內(nèi)設(shè)有保溫層,所述保溫層與工藝爐管之間形成加熱腔,所述加熱腔內(nèi)設(shè)置加熱器;所述工藝爐管與爐底法蘭、爐門室、爐門密閉形成工藝腔;穿過所述保溫層和爐殼分別設(shè)置爐殼真空管和爐殼進氣管;穿過所述爐門室一側(cè)設(shè)置工藝腔真空管,另一側(cè)設(shè)置工藝腔進氣管。本發(fā)明通過在真空密封爐膛內(nèi)設(shè)置爐底保溫層,爐殼保溫層,爐蓋保溫層,且爐蓋保溫層與爐蓋進行內(nèi)部固結(jié)形成一體,爐殼內(nèi)的三組保溫層形成一個封閉保溫空腔,使得立式高溫氧化爐加熱達到的溫度能夠穩(wěn)定的保持,減少能源消耗。 |
