高精密支撐掩膜版

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201711298540.2 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN107841710A 公開(kāi)（公告）日 2018-03-27
申請(qǐng)公布號(hào) CN107841710A 申請(qǐng)公布日 2018-03-27
分類(lèi)號(hào) C23C14/04;C23C14/24 分類(lèi) 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 唐軍 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 深圳浚漪科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州市南鋒專利事務(wù)所有限公司 代理人 鄭學(xué)偉;葉利軍
地址 518000 廣東省深圳市坪山新區(qū)錦龍大道馬巒創(chuàng)谷1棟3樓和2棟2樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種高精密支撐掩膜版，包括板框、多個(gè)條形掩膜片及支撐膜網(wǎng)，多個(gè)條形掩膜片沿縱向依次緊貼設(shè)置，相鄰兩個(gè)條形掩膜片之間具有拼接間隙；每個(gè)條形掩膜片沿橫向延伸且其兩端焊接于板框的頂面，每個(gè)條形掩膜片上設(shè)有至少一個(gè)掩膜圖案；支撐膜網(wǎng)位于多個(gè)條形掩膜片的下方且被固定于板框上，支撐膜網(wǎng)支撐多個(gè)條形掩膜片并覆蓋各個(gè)拼接間隙但不遮擋各個(gè)掩膜圖案。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例提供的高精密支撐掩膜版，既可以滿大尺寸的玻璃基板鍍膜要求，實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)，提高生產(chǎn)效率，也可以滿足顯示器在批量生產(chǎn)過(guò)程中的良率及精度要求。此外，其使用壽命長(zhǎng)，用戶端的成本低。