高精密掩膜版

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201711331823.2 申請日 -
公開（公告）號 CN107815642A 公開（公告）日 2018-03-20
申請公布號 CN107815642A 申請公布日 2018-03-20
分類號 C23C14/04;C23C14/24 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 唐軍 申請（專利權(quán)）人 深圳浚漪科技有限公司
代理機構(gòu) 廣州市南鋒專利事務(wù)所有限公司 代理人 鄭學(xué)偉;葉利軍
地址 518000 廣東省深圳市坪山新區(qū)錦龍大道馬巒創(chuàng)谷1棟3樓和2棟2樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種高精密掩膜版，包括板框、多個條形掩膜片及支撐膜網(wǎng)，板框的中央形成鏤空區(qū)，鏤空區(qū)的外圍形成框沿，框沿上其中兩相對邊沿的頂面分別設(shè)有一條形槽，相鄰兩個條形掩膜片之間具有拼接間隙；每個條形掩膜片兩端焊接于框沿上另外兩相對邊沿的頂面，每個條形掩膜片上設(shè)有掩膜圖案；支撐膜網(wǎng)位于多個條形掩膜片的下方，支撐膜網(wǎng)上兩相背的側(cè)邊分別延伸形成一焊接沿，兩焊接沿分別焊接于兩條形槽內(nèi)；支撐膜網(wǎng)支撐多個條形掩膜片并覆蓋各個拼接間隙但不遮擋各個掩膜圖案。根據(jù)本發(fā)明提供的高精密掩膜版，既可以滿大尺寸的玻璃基板鍍膜要求，實現(xiàn)批量生產(chǎn)，提高生產(chǎn)效率，也可以滿足顯示器在批量生產(chǎn)過程中的良率及精度要求。