一種氣相外延系統(tǒng)及其維護操作方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110845179.0 申請日 -
公開（公告）號 CN113604874A 公開（公告）日 2021-11-05
申請公布號 CN113604874A 申請公布日 2021-11-05
分類號 C30B25/08（2006.01）I;C30B25/12（2006.01）I;C30B25/10（2006.01）I;C30B28/14（2006.01）I 分類 晶體生長〔3〕;
發(fā)明人 林桂榮 申請（專利權(quán)）人 楚赟精工科技（上海）有限公司
代理機構(gòu) 上海光華專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 余明偉
地址 201400上海市浦東新區(qū)中國（上海）自由貿(mào)易試驗區(qū)張江路665號三層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種氣相外延系統(tǒng)，包括載盤支撐裝置、蓋體、反應(yīng)室、供氣系統(tǒng)及排氣室，載盤支撐裝置穿過蓋體，蓋體與載盤支撐裝置連接；反應(yīng)室包括內(nèi)腔室和外腔室，內(nèi)腔室為反應(yīng)腔，內(nèi)腔室設(shè)置于外腔室中；供氣系統(tǒng)位于反應(yīng)室的一端部；內(nèi)腔室包括第一分體和第二分體，第一分體靠近供氣系統(tǒng)，第二分體遠離供氣系統(tǒng)；排氣室與外腔室堆疊設(shè)置，排氣室與外腔室密封隔離，內(nèi)腔室與排氣室連接；排氣室遠離供氣系統(tǒng)的一端設(shè)有開口，內(nèi)腔室可移動地設(shè)置于外腔室和排氣室中。本發(fā)明通過引入具有分體結(jié)構(gòu)的內(nèi)腔室以及升降結(jié)構(gòu)，可以在維護時只需更換內(nèi)腔室的分體部分，無需整管更換，便于設(shè)備維護，可簡化維護流程，提高設(shè)備稼動率和良率。