一種氣相外延系統(tǒng)及其維護(hù)操作方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110845177.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113604873A | 公開(公告)日 | 2021-11-05 |
申請公布號 | CN113604873A | 申請公布日 | 2021-11-05 |
分類號 | C30B25/08(2006.01)I;C30B25/12(2006.01)I;C30B25/10(2006.01)I;C30B28/14(2006.01)I | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
發(fā)明人 | 林桂榮 | 申請(專利權(quán))人 | 楚赟精工科技(上海)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 余明偉 |
地址 | 201400上海市浦東新區(qū)中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)張江路665號三層 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種氣相外延系統(tǒng),包括載盤支撐裝置、蓋體、反應(yīng)室和頂蓋組件;載盤支撐裝置穿過蓋體,蓋體與載盤支撐裝置連接;反應(yīng)室包括內(nèi)腔室和外腔室,內(nèi)腔室設(shè)置于外腔室中;頂蓋組件位于反應(yīng)室的一端部,包括進(jìn)氣管路和進(jìn)氣法蘭,進(jìn)氣法蘭與外腔室通過緊固裝置連接,進(jìn)氣管路與內(nèi)腔室相通以向內(nèi)腔室供氣;內(nèi)腔室遠(yuǎn)離頂蓋組件的另一端設(shè)有開口,蓋體用于對內(nèi)腔室的開口進(jìn)行氣密性開閉,載盤支撐裝置可移動地設(shè)置于內(nèi)腔室中;反應(yīng)室可通過蓋體隨載盤支撐裝置移動,從而實現(xiàn)頂蓋組件與反應(yīng)室之間的閉合。本發(fā)明提供的氣相外延系統(tǒng)通過引入反應(yīng)室和載盤支撐裝置的雙升降結(jié)構(gòu),可以在不同工況下從不同位置開啟腔體,便于設(shè)備維護(hù),簡化維護(hù)流程。 |
