光功率檢測(cè)裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201921806737.7 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN210833862U | 公開（公告）日 | 2020-06-23 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN210833862U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-06-23 |
| 分類號(hào) | G01J1/44(2006.01)I;G01J1/04(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 王鄉(xiāng) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 珠海邁時(shí)光電科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 葉琦煒 |
| 地址 | 519000廣東省珠海市香洲區(qū)南屏科技工業(yè)園屏東六路1號(hào)9號(hào)樓第二層205、206房 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型涉及光功率檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種光功率檢測(cè)裝置，能夠提高檢測(cè)效率。本實(shí)用新型包括若干個(gè)十字型的支架，以陣列分布地方式相互拼接；若干個(gè)探頭，分別固定于每一個(gè)所述支架的中部上；數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)，分別與每一個(gè)所述探頭電性連接。本實(shí)用新型利用若干個(gè)相互拼接而成的支架，可在光刻機(jī)的照面上同時(shí)實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)檢測(cè)，同時(shí)支架采用相同的尺寸，可使相鄰的探頭距離相同，從而使探頭可均勻地分布于光刻機(jī)的照面上，從而可檢測(cè)出光刻機(jī)照面上的光功率值的分布情況，此外，由于支架之間采用拼接的方式，可方便用戶將本實(shí)用新型進(jìn)行收納或組裝，提高了便利性。?? |
