調(diào)節(jié)裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201921805633.4 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN210835587U | 公開（公告）日 | 2020-06-23 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN210835587U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-06-23 |
| 分類號(hào) | G03F9/00(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 王鄉(xiāng);鐘勇 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 珠海邁時(shí)光電科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 葉琦煒 |
| 地址 | 519000廣東省珠海市香洲區(qū)南屏科技工業(yè)園屏東六路1號(hào)9號(hào)樓第二層205、206房 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型涉及光刻膠曝光技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種調(diào)節(jié)裝置，能夠調(diào)節(jié)對(duì)基片向上的壓力大小。本實(shí)用新型包括底座，設(shè)有第一孔和第二孔；活動(dòng)柱，以活動(dòng)連接方式穿設(shè)于第二孔上；可調(diào)節(jié)的氣囊，填充于第一孔內(nèi)；半球型的碗槽，設(shè)于活動(dòng)柱上端且底部設(shè)有可調(diào)節(jié)的真空腔；基片承載臺(tái)，上端設(shè)有用于放置基片的平臺(tái)；半球型的連接體，固定于基片承載臺(tái)的底部，連接體置于碗槽內(nèi)并與活動(dòng)柱滑動(dòng)連接。利用連接體和碗槽，可調(diào)節(jié)基片承載臺(tái)的水平度，使基片上端面與掩膜板下端面完全貼合；調(diào)節(jié)氣囊的壓強(qiáng)，可改變對(duì)活動(dòng)柱向上的力，從而改變基片承載臺(tái)對(duì)基片向上的壓力，則可調(diào)節(jié)基片和掩膜板之間接觸的壓強(qiáng)大小，使基片與掩膜板之間的接觸壓強(qiáng)在所需范圍內(nèi)。?? |
