一種反應(yīng)腔裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202022651965.0 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN213583693U 公開(kāi)（公告）日 2021-06-29
申請(qǐng)公布號(hào) CN213583693U 申請(qǐng)公布日 2021-06-29
分類號(hào) H01J37/32（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 邱勇;孫曉東 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海諳邦半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 201306上海市浦東新區(qū)環(huán)湖西二路888號(hào)C樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種反應(yīng)腔裝置，包括：反應(yīng)腔主體；位于所述反應(yīng)腔主體內(nèi)的晶圓夾持平臺(tái)，所述晶圓夾持平臺(tái)的表面適于放置晶圓；貫穿所述晶圓夾持平臺(tái)的若干位移孔；分別位于所述位移孔中的頂針，所述頂針的頂頭設(shè)置有測(cè)溫探頭，所述頂針適于在所述位移孔中往復(fù)移動(dòng)，使所述頂針的頂頭在高于所述晶圓夾持平臺(tái)的上表面的位置至低于所述晶圓夾持平臺(tái)的上表面的位置之間變化。所述反應(yīng)腔裝置能夠?qū)2混合氣還原灰化反應(yīng)中的晶圓的溫度進(jìn)行有效的控制和調(diào)節(jié)。