一種反應(yīng)腔裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202023184490.5 申請日 -
公開（公告）號 CN213583696U 公開（公告）日 2021-06-29
申請公布號 CN213583696U 申請公布日 2021-06-29
分類號 H01J37/32;H01L21/67 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 邱勇;吳堃;張鵬兵;陳世名 申請（專利權(quán)）人 上海諳邦半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 201306 上海市浦東新區(qū)環(huán)湖西二路888號C樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種反應(yīng)腔裝置，包括：反應(yīng)腔主體；位于所述反應(yīng)腔主體內(nèi)的晶圓承載平臺，所述晶圓承載平臺的表面適于放置晶圓；環(huán)繞所述晶圓承載平臺的緩沖環(huán)，所述緩沖環(huán)適于在垂直于晶圓承載平臺上表面的方向上進行移動。所述反應(yīng)腔裝置能夠調(diào)節(jié)整個晶圓表面反應(yīng)速率的均勻性。