一種等離子體處理裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202023050801.9 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN214313126U 公開（公告）日 2021-09-28
申請(qǐng)公布號(hào) CN214313126U 申請(qǐng)公布日 2021-09-28
分類號(hào) H01J37/32（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 邱勇;吳堃;張鵬兵;陳世名 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海諳邦半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 201306上海市浦東新區(qū)環(huán)湖西二路888號(hào)C樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種等離子體處理裝置，包括：反應(yīng)腔主體，所述反應(yīng)腔主體的頂部設(shè)置有等離子體通道板，所述等離子體通道板包括：等離子體通道板主體；環(huán)繞所述等離子體通道板主體的側(cè)部的通道板定位件；位于所述通道板定位件和所述反應(yīng)腔主體的頂壁之間的導(dǎo)電導(dǎo)熱環(huán)；位于所述等離子體通道板主體上方的等離子體發(fā)生單元。所述等離子體處理裝置能夠避免等離子體通道板在高溫條件下?lián)p傷以及等離子體通道板接地不良的問題。