一種反應(yīng)腔裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202023041281.5 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN214279904U 公開(kāi)（公告）日 2021-09-24
申請(qǐng)公布號(hào) CN214279904U 申請(qǐng)公布日 2021-09-24
分類號(hào) H01J37/32（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 邱勇;孫曉東 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海諳邦半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 201306上海市浦東新區(qū)環(huán)湖西二路888號(hào)C樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種反應(yīng)腔裝置，包括：反應(yīng)腔主體；位于所述反應(yīng)腔主體內(nèi)的晶圓承載平臺(tái)，所述晶圓承載平臺(tái)的表面適于放置晶圓；環(huán)繞所述晶圓承載平臺(tái)的緩沖環(huán)，所述緩沖環(huán)適于延長(zhǎng)反應(yīng)源粒子沿著晶圓表面向外橫向運(yùn)動(dòng)的路徑。所述反應(yīng)腔裝置能夠調(diào)節(jié)晶圓表面的反應(yīng)速率的均勻性。