一種反應(yīng)腔裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202023041270.7 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN214099575U 公開(kāi)（公告）日 2021-08-31
申請(qǐng)公布號(hào) CN214099575U 申請(qǐng)公布日 2021-08-31
分類(lèi)號(hào) H01J37/32（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I 分類(lèi) 基本電氣元件;
發(fā)明人 邱勇;吳堃;張鵬兵;陳世名 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 上海諳邦半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 201306上海市浦東新區(qū)環(huán)湖西二路888號(hào)C樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種反應(yīng)腔裝置，包括：反應(yīng)腔主體；位于反應(yīng)腔主體內(nèi)的晶圓承載平臺(tái)，晶圓承載平臺(tái)的表面適于放置晶圓；環(huán)繞晶圓承載平臺(tái)的上緩沖環(huán);位于上緩沖環(huán)的底部且環(huán)繞晶圓承載平臺(tái)的下緩沖環(huán)；位于下緩沖環(huán)底部的若干分立的高度調(diào)節(jié)器，若干分立的高度調(diào)節(jié)器適于調(diào)節(jié)下緩沖環(huán)至所述上緩沖環(huán)之間不同區(qū)域的縱向距離。所述反應(yīng)腔裝置能夠提高晶圓表面反應(yīng)的均勻性和對(duì)稱(chēng)性。