一種反應(yīng)腔裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202120045068.7 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN213878020U | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-08-03 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN213878020U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-08-03 |
| 分類(lèi)號(hào) | H01J37/32（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I;H01L21/683（2006.01）I;G03F7/42（2006.01）I | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 邱勇;吳堃;張朋兵;陳世名 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 上海諳邦半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 201306上海市浦東新區(qū)環(huán)湖西二路888號(hào)C樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 一種反應(yīng)腔裝置，包括：反應(yīng)腔主體；位于所述反應(yīng)腔主體內(nèi)的晶圓承載平臺(tái)，所述晶圓承載平臺(tái)的表面適于放置晶圓，所述晶圓承載平臺(tái)沿著晶圓承載平臺(tái)的上表面包括若干個(gè)間隔的溫控區(qū)域，各溫控區(qū)域之間具有熱隔離通道。所述反應(yīng)腔裝置能夠提高晶圓表面反應(yīng)的均勻性和對(duì)稱(chēng)性。 |
