熔煉坩堝及其含有熔煉坩堝的熔煉爐

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011014290.7 申請日 -
公開（公告）號 CN111981846A 公開（公告）日 2020-11-24
申請公布號 CN111981846A 申請公布日 2020-11-24
分類號 F27B14/10;F27B14/12;F27B14/00 分類 爐；窯；烘烤爐；蒸餾爐〔4〕;
發(fā)明人 王紅義 申請（專利權(quán)）人 光微半導(dǎo)體材料（寧波）有限公司
代理機構(gòu) 北京細(xì)軟智谷知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 代理人 陳曉輝
地址 461499 河南省周口市太康縣板橋鎮(zhèn)板橋行政村板橋村100號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種熔煉坩堝，涉及熔煉技術(shù)領(lǐng)域，熔煉坩堝包括：坩堝本體為具有頂部開口的容置內(nèi)腔，坩堝本體的側(cè)壁上具有排氣孔；坩堝蓋蓋設(shè)于坩堝本體上，用于密封坩堝本體；通氣管通過坩堝蓋向坩堝本體的容置內(nèi)腔通氣。及提供了含有熔煉坩堝的熔煉爐。本發(fā)明抽真空時，坩堝內(nèi)的空氣通過坩堝側(cè)壁上的排氣孔被向外抽取到爐腔內(nèi)，再到真空系統(tǒng)，同樣的，污染源產(chǎn)生的灰分或雜質(zhì)也不接觸坩堝，也提高了熔煉金屬的純凈度，充氣時，保護(hù)氣通過通氣管充入坩堝，再從坩堝側(cè)壁的排氣孔充入爐腔，只有保護(hù)氣接觸坩堝內(nèi)部，污染源產(chǎn)生的灰分或雜質(zhì)不接觸坩堝，提高熔煉金屬的純凈度。