一種奧氏體不銹鋼低溫離子滲氮的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201610504576.0 申請日 -
公開（公告）號 CN105937018B 公開（公告）日 2018-07-17
申請公布號 CN105937018B 申請公布日 2018-07-17
分類號 C23C8/38;C23C8/80;C25F3/24 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 曹馳;陳志林;楊瑞成;牟鑫斌;陳冬武;張銀明;陳碧碧;胡柏林 申請（專利權(quán)）人 溫州蘭理工科技園有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京市邦道律師事務(wù)所 代理人 段君峰
地址 325100 浙江省溫州市龍灣區(qū)永興街道濱海二路8號210室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于金屬表面硬化處理技術(shù)領(lǐng)域。為了解決采用常規(guī)奧氏體不銹鋼低溫離子滲氮方法對奧氏體不銹鋼進(jìn)行表面處理后，存在氮化層厚度薄或氮化層厚度不均的問題，本發(fā)明公開了一種全新的奧氏體不銹鋼低溫離子滲氮的方法。該方法首先將奧氏體不銹鋼工件放入離子氮化爐內(nèi)，并將離子氮化爐內(nèi)的氣壓抽真空；其次向離子氮化爐內(nèi)通入氬氣進(jìn)行離子轟擊；然后通入氮?dú)夂蜌錃膺M(jìn)行低壓力離子滲氮和高壓力離子滲氮。通過采用本發(fā)明的奧氏體不銹鋼低溫離子滲氮的方法，可以使奧氏體不銹鋼表面形成具有一定厚度且厚度均勻的氮化層，從而使奧氏體不銹鋼在保持原有耐蝕性的同時(shí)具有良好的硬度和耐磨性。