等離子射頻發(fā)射美容電極

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201320387330.1 申請日 -
公開（公告）號 CN203458688U 公開（公告）日 2014-03-05
申請公布號 CN203458688U 申請公布日 2014-03-05
分類號 A61N1/04(2006.01)I 分類 醫(yī)學(xué)或獸醫(yī)學(xué)；衛(wèi)生學(xué);
發(fā)明人 潘曉海 申請（專利權(quán)）人 武漢凱瑞斯科技有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 430060 湖北省武漢市武昌區(qū)友誼大道2號2008新長江廣場B2906
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及等離子射頻發(fā)射美容電極，其包括上蓋、固定環(huán)、等離子發(fā)射極陣列和底托；上蓋上設(shè)置有發(fā)射孔陣列；固定環(huán)上設(shè)置有定位孔，外圓周面上設(shè)置有外螺紋；等離子發(fā)射極陣列包括固定板和安裝在固定板上的等離子發(fā)射極的陣列，固定板上設(shè)置有固定孔；底托設(shè)置為杯狀，其內(nèi)側(cè)面設(shè)置有內(nèi)螺紋，底部設(shè)置有電極孔陣列；上蓋上的發(fā)射孔陣列、底托底部的電極孔陣列與固定板上的等離子發(fā)射極的陣列對應(yīng)設(shè)置；固定環(huán)上設(shè)置的外螺紋與底托內(nèi)側(cè)面的內(nèi)螺紋相配合；固定環(huán)上的定位孔與固定板上的固定孔對應(yīng)設(shè)置。首創(chuàng)等離子點陣技術(shù)，將微創(chuàng)點陣技術(shù)升華為無創(chuàng)點陣，確保表皮完整無創(chuàng)，有效刺激真皮層，形成完美的美膚效果。