硅光電倍增器、光電探測(cè)裝置及成像系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202020936582.5 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN211980623U 公開(kāi)(公告)日 2020-11-20
申請(qǐng)公布號(hào) CN211980623U 申請(qǐng)公布日 2020-11-20
分類號(hào) H01L31/02(2006.01)I;H01L27/146(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 張璽;徐青;王麟 申請(qǐng)(專利權(quán))人 湖北京邦科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 436044湖北省鄂州市梧桐湖新區(qū)東湖高新科技創(chuàng)意城A03棟
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種硅光電倍增器、光電探測(cè)裝置及成像系統(tǒng),該硅光電倍增器包括:雪崩光電二極管陣列,其包括第一雪崩光電二極管和第二雪崩光電二極管,并且第二雪崩光電二極管設(shè)置在第一雪崩光電二極管的外圍,以將第一雪崩光電二極管與第一電極間隔開(kāi);淬滅單元,其用于在雪崩光電二極管陣列發(fā)生雪崩擊穿效應(yīng)時(shí)對(duì)雪崩光電二極管陣列進(jìn)行淬滅,其中,第一雪崩光電二極管的兩端分別與第一電極和第二電極連接;第二雪崩光電二極管的兩端分別與第一電極和第三電極連接,當(dāng)?shù)诙┍拦怆姸O管處于工作狀態(tài)時(shí),在其內(nèi)形成的耗盡區(qū)在深度方向上至少覆蓋外延層的一部分。通過(guò)利用本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案,可以實(shí)現(xiàn)提高對(duì)波長(zhǎng)較長(zhǎng)的光子的探測(cè)效率。??