半導(dǎo)體裝置和光電探測系統(tǒng)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202020944173.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN211980629U | 公開(公告)日 | 2020-11-20 |
申請公布號 | CN211980629U | 申請公布日 | 2020-11-20 |
分類號 | H01L31/101(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 張璽;徐青;王麟 | 申請(專利權(quán))人 | 湖北京邦科技有限公司 |
代理機構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 436044湖北省鄂州市梧桐湖新區(qū)東湖高新科技創(chuàng)意城A03棟 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型公開了一種半導(dǎo)體裝置和光電探測系統(tǒng),該半導(dǎo)體裝置可以包括:外延層,其包括呈第一導(dǎo)電類型的第一部分和第二部分,并且在第一部分中的遠離第二部分的一側(cè)形成有呈與所述第一導(dǎo)電類型相反的第二導(dǎo)電類型的第一摻雜區(qū)、第二摻雜區(qū)、以及呈第一導(dǎo)電類型的第三摻雜區(qū),其中,第二摻雜區(qū)位于第一摻雜區(qū)與第三摻雜區(qū)之間,并且第二部分、第一摻雜區(qū)、第二摻雜區(qū)以及第三摻雜區(qū)的摻雜濃度均大于第一部分的摻雜濃度,并且通過第一摻雜區(qū)形成該半導(dǎo)體裝置的輸出端;鈍化層,其位于第一部分的一側(cè)上方,并且其內(nèi)部形成有與第一摻雜區(qū)對應(yīng)的反射區(qū)。通過利用本實用新型提供的技術(shù)方案,可以提高對波長較長的光子的探測效率。?? |
