一種超分子組裝體及其制備方法和清洗用途

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110851016.3 申請日 -
公開（公告）號 CN113604298A 公開（公告）日 2021-11-05
申請公布號 CN113604298A 申請公布日 2021-11-05
分類號 C11D7/32（2006.01）I;C11D7/26（2006.01）I;C11D7/60（2006.01）I;C11D7/36（2006.01）I;C11D7/34（2006.01）I;B08B3/08（2006.01）I 分類 動物或植物油、脂、脂肪物質(zhì)或蠟；由此制取的脂肪酸；洗滌劑；蠟燭;
發(fā)明人 侯軍;申海艷 申請（專利權(quán)）人 江蘇奧首材料科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京至臻永信知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 彭曉玲;張寶香
地址 215523江蘇省蘇州市常熟碧溪新區(qū)萬和路39號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種超分子組裝體、其制備方法和用途、包含其的清洗液及其用途和使用其的蝕刻后半導(dǎo)體晶片清洗方法，所述超分子組裝體由環(huán)糊精類化合物主體分子與還原性客體分子組成，所述清洗液包括所述超分子組裝體、3?吡啶基偕胺肟、酸、有機(jī)堿、N,N?二乙基羥胺、多元醇、有機(jī)溶劑和水，所述超分子組裝體通過獨(dú)特的環(huán)糊精類化合物主體分子和還原性客體分子的選擇與相互協(xié)同，具有諸多優(yōu)異的技術(shù)效果，尤其是優(yōu)異的殘留物清除效果和非常低的金屬腐蝕速率，可用于蝕刻后半導(dǎo)體晶片清洗領(lǐng)域，具有良好的應(yīng)用前景和工業(yè)化生產(chǎn)潛力。