一種采用TSV技術的無背電極光電探測器陣列結構及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201910808012.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN110518026A | 公開(公告)日 | 2019-11-29 |
申請公布號 | CN110518026A | 申請公布日 | 2019-11-29 |
分類號 | H01L27/144;H01L31/0216;H01L31/0224;H01L31/0352;H01L31/18 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 董自勇;盛振;汪斌;李文剛 | 申請(專利權)人 | 江蘇尚飛光電科技股份有限公司 |
代理機構 | 北京權智天下知識產權代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 王新愛 |
地址 | 226017 江蘇省南通市蘇通科技產業(yè)園區(qū)江成路1088號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種采用TSV技術的無背電極光電探測器陣列結構及其制備方法,包括半導體硅襯底、P+型隔離槽和N+摻雜區(qū);所述P+型隔離槽設置在半導體硅襯底的正面;所述N+摻雜區(qū)設置在半導體硅襯底的正面和背面;所述半導體硅襯底正面的P+型隔離槽和N+摻雜區(qū)交錯間隔設置;所述半導體硅襯底正面的N+摻雜區(qū)上設有電極陰極;所述P+型隔離槽上端設有電極陽極;所述半導體硅襯底正面和背面還設有增透膜;所述電極陰極和電極陽極均設置在同一側;本發(fā)明通過將電極設置在同一側,符合探測器器件輕薄化發(fā)展要求,降低生產成本,將半導體硅襯底正面與背面的N+摻雜區(qū)采用TSV技術,實現正反面N+摻雜區(qū)的連通,有利于載流子收集和減小串擾。 |
