一種用于真空吸鑄機的結晶室底盤
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201920897287.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN210146964U | 公開(公告)日 | 2020-03-17 |
申請公布號 | CN210146964U | 申請公布日 | 2020-03-17 |
分類號 | B22D18/06 | 分類 | 鑄造;粉末冶金; |
發(fā)明人 | 吳斌斌;袁凱東;陳程;關奇漢;邢瑞軍;付浪榮 | 申請(專利權)人 | 上海華培芮培工業(yè)系統(tǒng)有限公司 |
代理機構 | 上海世圓知識產(chǎn)權代理有限公司 | 代理人 | 上海華培芮培工業(yè)系統(tǒng)有限公司 |
地址 | 201703 上海市青浦區(qū)崧秀路399號1幢1層北側 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型涉及一種用于真空吸鑄機的結晶室底盤,結晶室底盤包括呈圓錐狀的底盤體,底盤體設置于一托架上,托架包括一托架平臺和向外延伸的法蘭環(huán),底盤體外側面設有與法蘭環(huán)相配合的卡槽,底盤體的頂部設有一圈圓環(huán)狀的安裝固定邊,安裝固定邊通過固定件與法蘭環(huán)固定連接;安裝固定邊翻邊,翻邊與底盤體的外側面共同形成用以設置法蘭環(huán)的卡槽。使用時,底盤體則放置在法蘭環(huán)上,通過固定件與托架進行固定,這樣在需要拆卸底盤體的時候就非常便捷,提高了效率;使得多種尺寸的底盤體均能與法蘭環(huán)進行匹配,擴大了適用的范圍。 |
