一種偏光膜延伸處理裝置、工藝及偏光片
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111478046.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114211792A | 公開(公告)日 | 2022-03-22 |
申請公布號 | CN114211792A | 申請公布日 | 2022-03-22 |
分類號 | B29D11/00(2006.01)I;B29D7/01(2006.01)I;G02B5/30(2006.01)I | 分類 | 塑料的加工;一般處于塑性狀態(tài)物質的加工; |
發(fā)明人 | 金仲;李帥;施明志;張均銘;郭育誠;黃源 | 申請(專利權)人 | 恒美光電股份有限公司 |
代理機構 | 蘇州威世朋知識產權代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 韓臻臻 |
地址 | 215300江蘇省蘇州市昆山經濟技術開發(fā)區(qū)劍湖路111號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種偏光膜延伸處理裝置、工藝及偏光片,所述裝置包括膨潤槽、染色槽、交聯(lián)槽、延伸槽、調整槽、洗滌槽、干燥單元以及偏光膜表面藥劑去除機構;所述工藝包括將PVA基膜依次經過膨潤、染色、交聯(lián)、延伸、調整、洗滌、干燥工序處理后得到PVA偏光膜,所述洗滌工序中應用的洗滌液為純水;通過將洗滌工序替換掉傳統(tǒng)的補色工序,能夠有效去除偏光膜表面的硼酸附著,避免干燥后硼酸結晶導致的缺陷異常,提高偏光膜貼合前的表面潔凈度,降低點狀缺陷發(fā)生率,提升產品良率,同時降低化學品使用量,提升偏光膜表面親水基團數(shù)量,制造出物理性能更優(yōu)異的偏光片。 |
