大面積可控電弧蒸發(fā)源

基本信息

申請?zhí)?/td> CN94220021.7 申請日 -
公開（公告）號 CN2205832Y 公開（公告）日 1995-08-23
申請公布號 CN2205832Y 申請公布日 1995-08-23
分類號 C23C14/32 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 袁哲;張樹林;王振全;高仰之 申請（專利權(quán)）人 北京電爐廠有限公司
代理機構(gòu) 三高專利事務(wù)所 代理人 李富英
地址 100054北京市宣武區(qū)南菜園乙15號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種大面積可控電弧蒸發(fā)源，大平面靶2固定在陰極座7上，兩者之間有密封圈6。陰極座7與真空室24的法蘭通過絕緣件5及密封圈8密封，陰極座7中設(shè)有多組電弧線圈16，蓋板17固定在陰極座上，壓板12用螺栓固連在真空室24的法蘭上，電磁線圈16通過接線柱14接直流電源。大平面靶2上同心裝有異種材料的圓環(huán)靶19、20或裝有小圓柱靶1。本實用新型的優(yōu)點是通過控制電弧線圈中電流的變化控制磁場變化使靶材燒蝕均勻，并可鍍制多種成分的膜層。