一種微波等離子氣相沉積金剛石的設備
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110677872.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113430499A | 公開(公告)日 | 2021-09-24 |
申請公布號 | CN113430499A | 申請公布日 | 2021-09-24 |
分類號 | C23C16/27(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I;C23C16/511(2006.01)I;F16L37/14(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 曹曉君 | 申請(專利權(quán))人 | 湖南良誠新材料科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 長沙湘馳達知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 羅若愚 |
地址 | 422000湖南省邵陽市邵陽經(jīng)濟開發(fā)區(qū)電子信息產(chǎn)業(yè)園標準廠房B區(qū)第8棟 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種微波等離子氣相沉積金剛石的設備,包括反應爐,所述反應爐內(nèi)設置有反應腔,且反應爐的頂部設置有與反應腔相連通的轉(zhuǎn)換器,所述轉(zhuǎn)換器上連接有微波發(fā)生器,所述反應腔內(nèi)設置有沉積基片臺,且反應腔內(nèi)壁設置有折射板,所述反應腔內(nèi)壁與沉積基片臺相對應位置設置有環(huán)形管,所述環(huán)形管上設置有氣孔,所述反應爐的外側(cè)設置有輸氣管,所述輸氣管通過連接裝置與環(huán)形管相連通,所述連接裝置包括安裝在反應爐外表面的固定架以及安裝在輸氣管上的連接架。本發(fā)明中,通過設置的連接裝置,既能保證輸氣管路能夠便捷穩(wěn)定的對接安裝到反應爐上,同時也可以進行便捷的拆卸工作,使用非常的靈活便捷,方便進行檢修維護工作。 |
