釹鐵硼真空冶煉功率調(diào)節(jié)方法、裝置、系統(tǒng)和存儲(chǔ)介質(zhì)
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110306535.1 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN113157044A | 公開(kāi)(公告)日 | 2021-07-23 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113157044A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-07-23 |
分類號(hào) | G05F1/66;C22C33/04 | 分類 | 控制;調(diào)節(jié); |
發(fā)明人 | 徐福興;王吉?jiǎng)?富海軍;王玉鵬;王鵬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 沈陽(yáng)廣泰真空科技股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京中強(qiáng)智尚知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 黃耀威 |
地址 | 110172 遼寧省沈陽(yáng)市沈撫新區(qū)同城路599號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種釹鐵硼真空冶煉功率調(diào)節(jié)方法、裝置、系統(tǒng)和存儲(chǔ)介質(zhì),涉及釹鐵硼稀土真空冶煉技術(shù)領(lǐng)域。其中方法包括:采集中頻電源輸出的實(shí)時(shí)功率值;對(duì)實(shí)時(shí)功率值和預(yù)設(shè)功率曲線對(duì)應(yīng)的設(shè)定功率值之間的偏差值進(jìn)行不完全微分PID控制調(diào)節(jié),得到目標(biāo)功率值;輸出目標(biāo)功率值。上述方法可以使目標(biāo)功率值與實(shí)時(shí)功率值保持一致,從而提高了功率調(diào)節(jié)的一致性,同時(shí),該方法省去了反復(fù)模擬輸出百分比的繁瑣操作,提高了工作效率,此外,該方法還可以使功率調(diào)節(jié)的步進(jìn)條段采用漸變的方式平穩(wěn)的升高或者下降,因而不會(huì)對(duì)中頻電源IGBT造成沖擊,延長(zhǎng)了中頻電源的使用壽命。 |
