釹鐵硼真空冶煉功率調(diào)節(jié)方法、裝置、系統(tǒng)和存儲介質(zhì)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110306535.1 申請日 -
公開（公告）號 CN113157044A 公開（公告）日 2021-07-23
申請公布號 CN113157044A 申請公布日 2021-07-23
分類號 G05F1/66;C22C33/04 分類 控制；調(diào)節(jié);
發(fā)明人 徐福興;王吉剛;富海軍;王玉鵬;王鵬 申請（專利權(quán)）人 沈陽廣泰真空科技股份有限公司
代理機構(gòu) 北京中強智尚知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 黃耀威
地址 110172 遼寧省沈陽市沈撫新區(qū)同城路599號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種釹鐵硼真空冶煉功率調(diào)節(jié)方法、裝置、系統(tǒng)和存儲介質(zhì)，涉及釹鐵硼稀土真空冶煉技術(shù)領(lǐng)域。其中方法包括：采集中頻電源輸出的實時功率值；對實時功率值和預(yù)設(shè)功率曲線對應(yīng)的設(shè)定功率值之間的偏差值進行不完全微分PID控制調(diào)節(jié)，得到目標功率值；輸出目標功率值。上述方法可以使目標功率值與實時功率值保持一致，從而提高了功率調(diào)節(jié)的一致性，同時，該方法省去了反復(fù)模擬輸出百分比的繁瑣操作，提高了工作效率，此外，該方法還可以使功率調(diào)節(jié)的步進條段采用漸變的方式平穩(wěn)的升高或者下降，因而不會對中頻電源IGBT造成沖擊，延長了中頻電源的使用壽命。