PVD設備的雙面鍍膜控制方法、裝置及系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011416265.1 申請日 -
公開（公告）號 CN112522679A 公開（公告）日 2021-03-19
申請公布號 CN112522679A 申請公布日 2021-03-19
分類號 C23C14/56(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 王海平;曹磊;王鵬 申請（專利權）人 沈陽廣泰真空科技股份有限公司
代理機構 北京中強智尚知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 黃耀威
地址 110172遼寧省沈陽市沈撫新區(qū)同城路599號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請公開了一種PVD設備的雙面鍍膜控制方法、裝置及系統(tǒng)，涉及鍍膜技術領域，可以解決在控制執(zhí)行PVD設備的雙面鍍膜時，采用人工判斷、翻面及啟?；≡吹确绞剑瑢е氯斯こ杀据^高，且鍍膜效率較低、誤差率較大的問題。其中方法包括：利用前升降料臺系統(tǒng)接收用于盛裝目標物料的目標料盤，并采集所述目標料盤的工作信息；基于所述工作信息控制翻轉臺系統(tǒng)以及鍍膜主機執(zhí)行所述目標物料下的雙面鍍膜操作。本申請適用于對PVD設備的雙面鍍膜控制。??