PVD設(shè)備的雙面鍍膜控制方法、裝置及系統(tǒng)
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011416265.1 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN112522679A | 公開(公告)日 | 2021-03-19 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN112522679A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-03-19 |
分類號(hào) | C23C14/56(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 王海平;曹磊;王鵬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 沈陽(yáng)廣泰真空科技股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京中強(qiáng)智尚知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 黃耀威 |
地址 | 110172遼寧省沈陽(yáng)市沈撫新區(qū)同城路599號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請(qǐng)公開了一種PVD設(shè)備的雙面鍍膜控制方法、裝置及系統(tǒng),涉及鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,可以解決在控制執(zhí)行PVD設(shè)備的雙面鍍膜時(shí),采用人工判斷、翻面及啟?;≡吹确绞?,導(dǎo)致人工成本較高,且鍍膜效率較低、誤差率較大的問題。其中方法包括:利用前升降料臺(tái)系統(tǒng)接收用于盛裝目標(biāo)物料的目標(biāo)料盤,并采集所述目標(biāo)料盤的工作信息;基于所述工作信息控制翻轉(zhuǎn)臺(tái)系統(tǒng)以及鍍膜主機(jī)執(zhí)行所述目標(biāo)物料下的雙面鍍膜操作。本申請(qǐng)適用于對(duì)PVD設(shè)備的雙面鍍膜控制。?? |
