一種GaAs襯底mini-LED芯片及制作方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111189547.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113644178A | 公開(公告)日 | 2021-11-12 |
申請公布號 | CN113644178A | 申請公布日 | 2021-11-12 |
分類號 | H01L33/38(2010.01)I;H01L33/06(2010.01)I;H01L33/10(2010.01)I;H01L33/14(2010.01)I;H01L33/20(2010.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 王克來;徐培強;熊珊;潘彬;王向武 | 申請(專利權(quán))人 | 南昌凱捷半導(dǎo)體科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 南昌金軒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 張震東 |
地址 | 330000江西省南昌市臨空經(jīng)濟(jì)區(qū)黃堂西街199號8#廠房204室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及半導(dǎo)體LED技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種GaAs襯底mini?LED芯片及制作方法。芯片包括由下至上依次設(shè)置的絕緣層、GaAs襯底層、N型半導(dǎo)體層、量子阱層和P型半導(dǎo)體層;所述絕緣層遠(yuǎn)離所述GaAs襯底層一側(cè)的表面設(shè)置有N電極和P電極;所述絕緣層遠(yuǎn)離所述GaAs襯底層一側(cè)的表面設(shè)置有貫穿所述絕緣層、所述GaAs襯底層、所述N型半導(dǎo)體層和所述量子阱層的通孔,所述通孔內(nèi)填充金屬材料使得所述P電極和所述P型半導(dǎo)體層電連接。由于在制作mini?LED過程中不需要將外延片與其他襯底鍵合然后將GaAs襯底去除,極大的簡化了芯片制作流程,提高了產(chǎn)品良率,降低了生產(chǎn)成本。 |
