一種金屬化電容器薄膜生產用真空蒸鍍裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121022569.X 申請日 -
公開（公告）號 CN215163062U 公開（公告）日 2021-12-14
申請公布號 CN215163062U 申請公布日 2021-12-14
分類號 C23C14/24（2006.01）I;C23C14/20（2006.01）I;H01G13/00（2013.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 林美云;吳忠平 申請（專利權）人 湖北龍辰科技股份有限公司
代理機構 武漢紅觀專利代理事務所（普通合伙） 代理人 李季
地址 438000湖北省黃岡市高新技術開發(fā)區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種金屬化電容器薄膜生產用真空蒸鍍裝置，包括殼體A，所述殼體A的一側設置有殼體B，所述殼體B有兩個，所述殼體A與所述殼體B的底部設置有安裝座，所述殼體B的內部對稱設置有安裝軸，所述安裝軸的頂部與底部對稱設置有安裝板，所述安裝板的表面等角度開設有多個安裝孔，所述安裝軸貫穿通過所述安裝孔的內部，所述安裝軸的底部與所述安裝孔之間設置有限位組件所述殼體A與所述殼體B的連接面設置有密封組件，所述密封組件包密封凸條、卡槽、密封墊A和密封墊B；該實用新型通過設計的密封組件便于提高殼體A與殼體B之間連接的密封性，使得薄膜在進行蒸鍍時可以保持較好的真空狀態(tài)，使得薄膜的蒸鍍效果較好。