一種單晶硅化學(xué)機(jī)械拋光液及其制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110749762.1 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN113621313A 公開(kāi)（公告）日 2021-11-09
申請(qǐng)公布號(hào) CN113621313A 申請(qǐng)公布日 2021-11-09
分類號(hào) C09G1/02（2006.01）I 分類 染料；涂料；拋光劑；天然樹(shù)脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應(yīng)用;
發(fā)明人 萬(wàn)旭軍;王磊 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 寧波日晟新材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京圣州專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 劉巖
地址 315000浙江省寧波市余姚市丈亭鎮(zhèn)龍豐村
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種單晶硅化學(xué)機(jī)械拋光液，所述拋光液由以下重量百分比的原料組成：磨料0.1％wt?40％wt、電解質(zhì)0.05％wt?5％wt、表面活性劑1％wt?35％wt、余量去離子水；并采用pH調(diào)節(jié)劑將所述拋光液的pH值調(diào)節(jié)至8.5?11.5。本發(fā)明還公開(kāi)了一種單晶硅化學(xué)機(jī)械拋光液的制備方法，首先將磨料加入到去離子水中，攪拌均勻，再加入電解質(zhì)和表面活性劑，進(jìn)一步攪拌均勻，加入pH調(diào)節(jié)劑，調(diào)整混合液的pH值，充分?jǐn)嚢杈鶆蚝螅玫綊伖庖?。采用本發(fā)明所述的單晶硅化學(xué)機(jī)械拋光液及其制備方法，能夠解決現(xiàn)有的拋光液效率低，易在硅片表面留下?lián)p傷的問(wèn)題，具有制備方法簡(jiǎn)單、易于操作、生產(chǎn)成本低的優(yōu)點(diǎn)。