一種真空蒸鍍設(shè)備的蒸發(fā)源

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201920142801.X 申請日 -
公開（公告）號 CN209584357U 公開（公告）日 2019-11-05
申請公布號 CN209584357U 申請公布日 2019-11-05
分類號 C23C14/24（2006.01）I; C23C14/26（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 陳衛(wèi)民; 王捷 申請（專利權(quán)）人 廣州先藝電子科技有限公司
代理機構(gòu) 北京科億知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 廣州先藝電子科技有限公司
地址 510000 廣東省廣州市番禺區(qū)南村鎮(zhèn)里仁洞金山工業(yè)園自編B幢B201、B202、B302
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種真空蒸鍍設(shè)備的蒸發(fā)源，一種真空蒸鍍設(shè)備的蒸發(fā)源，包括坩堝和加熱部，所述加熱部均勻設(shè)置在所述坩堝的外周；所述蒸發(fā)源的側(cè)上方設(shè)置有坩堝，坩堝底部設(shè)置有小孔；所述坩堝底部的小孔與所述蒸發(fā)部之間設(shè)置有引流束；所述引流束的一端設(shè)置在所述蒸發(fā)部，所述引流束的另一端穿過坩堝底部的小孔伸入至坩堝內(nèi)。本實用新型由于蒸發(fā)原料以液體狀態(tài)沿著引流束逐步輸運，在到達(dá)蒸發(fā)部時迅速蒸發(fā)，減少了同時加熱蒸發(fā)全部原料導(dǎo)致的成分偏差。同時,該蒸發(fā)源對蒸發(fā)原料的形狀要求低，不需要制備成粉末、絲狀等特殊形狀，降低了原料成本。