光源裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202011196400.6 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN114442437A 公開（公告）日 2022-05-06
申請(qǐng)公布號(hào) CN114442437A 申請(qǐng)公布日 2022-05-06
分類號(hào) G03F7/20（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 曾憲俊 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海宏澎能源科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 中國貿(mào)促會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 代理人 馬景輝
地址 201900上海市寶山區(qū)盤古路388號(hào)5號(hào)樓三樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本公開涉及光源裝置。一種光源裝置，包括：等離子源；第一電源，用于為等離子源供電；第一電極，具有孔；第二電源，用于在等離子源的負(fù)電極與第一電極之間產(chǎn)生第一電場(chǎng)，使得等離子體從孔穿過第一電極；第二電極，用于接收穿過第一電極的等離子體；第三電源，用于在第一電極與第二電極之間產(chǎn)生第二電場(chǎng)；真空室；以及磁體，用于產(chǎn)生磁場(chǎng)，磁場(chǎng)被構(gòu)造成將等離子體約束在真空室的中心軸附近，真空室包括第一腔室、第二腔室、第三腔室和第四腔室，磁體包括：第一磁體，用于在第一腔室中產(chǎn)生第一磁場(chǎng)；第二磁體，用于在第二腔室中產(chǎn)生第二磁場(chǎng)；以及第三磁體，用于在第四腔室中產(chǎn)生第三磁場(chǎng)，等離子體在第三腔室中會(huì)聚，從而產(chǎn)生電磁輻射。