三維存儲(chǔ)器及其制作方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110402635.4 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN113517312A | 公開(公告)日 | 2021-10-19 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113517312A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-10-19 |
分類號(hào) | H01L27/24(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 劉峻 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 長(zhǎng)江先進(jìn)存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新中心有限責(zé)任公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京派特恩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 劉鶴;張穎玲 |
地址 | 430014湖北省武漢市東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)高新大道999號(hào)未來科技城海外人才大樓A座18樓242室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明實(shí)施例提供了一種三維存儲(chǔ)器及其制作方法,所述三維存儲(chǔ)器包括:至少一個(gè)存儲(chǔ)單元陣列塊;所述存儲(chǔ)單元陣列塊至少包括:層疊設(shè)置的第一地址線層、多個(gè)第一相變存儲(chǔ)單元以及第二地址線層;其中,第一地址線層與第二地址線層平行;所述第一地址線層包括多條均沿第一方向延伸的第一地址線;所述第二地址線層包括多條均沿第二方向延伸的第二地址線;所述第一方向與第二方向垂直;所述第一相變存儲(chǔ)單元與所述第一地址線和第二地址線均垂直;所述第一地址線沿第一方向的長(zhǎng)度與所述第二地址線沿第二方向的長(zhǎng)度基本相同,且所述第一地址線的電阻與所述第二地址線的電阻基本相同。 |
